Endurance improvements and defect characterization in ferroelectric FETs through interface fluorination.
Yannick RaffelRicardo OlivoMaximilian LedererF. MüllerR. HoffmannT. AliKonstantin MertensLuca PirroMaximilian DrescherSven BeyerThomas KämpfeKonrad SeidelLukas M. EngJ. HeitmannPublished in: IMW (2022)